基本长者几个月,短者十几天就能够把可商业化应用的成果给搞出来。
可以每年花费的经费,也是相当的感人。
要不是研发出来的技术有着超强的变现能力,都得要承受不住了。
除了联合大学的事情之外,另外一件事情,也是让陈怀庆很是在意。
那就是Mota400光刻机。
Mota400光刻机是墨塔微电的最新之作,大量采购了国外的一些零部件,在一些核心部件上面,Mota400也是有国产的部件。
相比起Mota800光刻机相比,Mota400光刻机在一开始的时候,零部件的国产化率就要高出很多。
像是Mota800光刻机在刚出的时候,国产化率只有百分之二十几,而到了现在,Mota400光刻机的国产化率直接是百分之四十起步的。
提升了十几个百分点。
这无疑来讲,是一个相当巨大的进步。
Mota400光刻机属于第二代光刻机,是Mota800的升级版产品。
可以实现最小400nm的工艺节点,当然,通过特殊的工艺制程的话,可以生产更低节点工艺的芯片。
只不过在成本上面,可能会是稍稍贵了那么些。
光刻机最为重要的,就是光源。
现在采用的光源都属于深紫外光。
第一代光刻机采用的波长436nm的g-line光源,现在的光刻机采用波长365nm的i-line光源。
下一代光源也已经确定了,是波长248nm的KrF光源。
第四代的时候,采用波长193nm的ArF光源。
但是,已经有一个新的概念被提了出来,那就是极紫外光刻机。
这可能很多人都不熟悉,换上一个说法:EUV光刻机。每一次光源的改进,都是能够显著提升光刻机所能实现的最小工艺节点。
只不过极紫外光刻机这个新概念被提了出来,但是却没有企业往这个上面投钱。
很简单的原因,极紫外光想要作为光源用到光刻上面,技术难度实在有着些过于的高了些。
反正,这属于一个概念性的东西。
市场上面的光刻机,还依旧的能够满足需求,大家对于这极紫外光刻机并不急着要。
实际上,Asml在1999年的时候才开始进行EUV光刻机的研发工作。
计划是通过五年时间,在2004年的时候,就推出EUV光刻机产品。
但是到了2010年才是搞出第一台EUV光刻机原型机,2016年才是向下游客户正式供货。
凭借着EUV光刻机,Asml也是一举成为全球光刻机领域当之无愧的最大巨头。
光源对于光刻机的重要性,实在过于的重要了一些。
陈怀庆也是看过一些报道,说华国在极紫外光源上面是有着突破的。
也不知道具体情况到底如何。
网络上面的新闻,这很多都只是看上一个乐就行。
除了光源之外,工作台和新的光刻技术创新,也是能够提升最小工艺节点和生产效率以及产品良品率。
此时大家对极紫外光刻机没有什么信心,可是陈怀庆却知道,这东西真的能行啊!
所以陈怀庆已经要求墨塔微电研发EUV光刻机,并且在投入上面,还不小。
首先就是在光源技术上面,得要先研究出来大功率的极紫外光源才行。
陈怀庆觉得,肯定没有什么问题的。
他可是记得,米国一直在推激光武器的概念。
然后华国的激光武器都已经可以实战化了,然后米国一下子就哑火了。
自己提出来的概念,怎么华国给先搞了出来?
极紫外光刻机是米国那边提出来的,为了打压霓虹的半导体行业,对于极紫外光刻机的研究,根本就不要霓虹参与进来。
事实上,靠着美欧的能力,整个研究显得很吃力。
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